產(chǎn)品詳情
這是一種典 型的負(fù)性光刻膠?？逻_(dá)公司的產(chǎn)品KPR膠即屬此類。 哈默納科光刻機(jī)諧波齒輪CSF-17-50-2UH感光樹(shù)脂在用近紫外光輻照成像時(shí)，光的波長(zhǎng)會(huì)限 制分辨率（見(jiàn)感光材料）的提高。為進(jìn)一步提高分辨率 以滿足超大規(guī)模集成電路工藝的要求，必須采用波長(zhǎng)更 短的輻射作為光源。由此產(chǎn)生電子束、X 射線和深紫外 (＜250nm)刻蝕技術(shù)和相應(yīng)的電子束刻蝕膠，哈默納科光刻機(jī)諧波齒輪CSF-17-50-2UHX射線刻蝕 膠和深紫外線刻蝕膠，所刻蝕的線條可細(xì)至1□m以下。 光刻機(jī) 光刻機(jī)用于將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝設(shè)備，可以在晶圓表面會(huì)留下帶有微圖形結(jié)構(gòu)的薄膜。
刻蝕機(jī) 電子回旋共振等離子體刻蝕機(jī)涉及的是一種集成電路制作工哈默納科光刻機(jī)諧波齒輪CSF-17-50-2UH藝中的微電子芯片加工設(shè)備。結(jié)構(gòu)具有真空室、微波系統(tǒng)
