誤區(qū)一：試驗完成后再申請專利

很多研發(fā)人員覺得，我的研發(fā)成果還在實驗階段，申請專利為時過早，等產品上市后再申請專利更合適。殊不知，這時已經晚了，即使你僥幸獲得授權，專利也處在不穩(wěn)定狀態(tài)之中。此時如果你發(fā)現有人侵權并提起訴訟，侵權人則會以專利申請之日技術已經被公開為由進行抗辯。專利申請的基礎不是已經在市場上存在的產品，也不一定是已經成型的產品。因此，只要有了切實可行的想法，就可以著手申請文件的撰寫了。

誤區(qū)二：產品專利申請后一勞永逸

有部分發(fā)明人認為申請了一項專利后，就可“高枕無憂”，從而忽視了后期的繼續(xù)研發(fā)工作，即使開發(fā)出了新產品或有了新改進，也不再申請專利。但是，這種錯誤認識的后果不異于未申請專利，因為當他人對該產品有了改進并申請了專利，反過來就限制了原專利權人產品的更新?lián)Q代，這就會導致原專利權人不經意間反而變成了侵權人。此時，原專利權人就喪失了自己的知識產權。

誤區(qū)三： 一項成果只能申請一類專利

有部分發(fā)明人認為一項技術成果一次只能申請一類專利，即只能申請發(fā)明專利或只能申請實用新型專利或者只能申請外觀設計專利。并不是，我國專利法規(guī)定的專利類型有三類：發(fā)明專利、實用新型專利及外觀設計專利，一項產品發(fā)明可同時申請多種專利，技術方案也可以同時申請實用新型和發(fā)明專利。

實用新型專利批得快，可盡快獲得相應保護，通常需8個月左右時間;發(fā)明專利則通常需2～5年審查批準時間;從近兩年的審查情況看，新型專利通常8個月左右即可授權，發(fā)明專利則需2年半左右。

誤區(qū)四 ：有專利證書就是有效的專利權

在我國，國家知識產權局對實用新型和外觀設計專利不進行實質審查，即使在你申請之前已經有人就相同的技術方案申請過非常類似的專利，你的申請仍可能會被批準。如果沒有人提出異議，你的專利權會維持下去。一旦有人對你的專利提出無效宣告，那么你的專利會幾乎百分之百地被無效掉，也就是說你并沒有取得有效的專利權。就發(fā)明專利而言，雖然國家知識產權局對它進行過實質審查，但誰也不能保證發(fā)明專利審查部門對世界范圍內所有相關的文獻資料都檢索過。

誤區(qū)五 ：技術方面遮遮掩掩

很多單位的發(fā)明人提交的專利申請文件非常簡單，有的甚至只有幾句話，技術方案完全沒有交待清楚，這給專利代理人制作正式專利申請文件帶來很大困難。

要求發(fā)明人提供更多的技術方案時，他們會以技術保密為由回避，表明這些發(fā)明人沒有把握好保密與公開的度。他們只是一味要求保密，害怕多透露一點技術信息，而恰恰忽視了公開不充分的問題。

誤區(qū)六 ：先發(fā)論文再申請專利

有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒有想到先申請專利保護。因為發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開技術內容，使專利申請失去新穎性而得不到保護。

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