產(chǎn)品詳情
在熱處理產(chǎn)業(yè)（如 氣體氮化、氮碳共滲、保護氣氛退火、真空氫氣保護爐等）中，氫是常見的氣體組分之一，它影響爐內(nèi)氣氛的還原性、熱傳遞效率、材料表面狀態(tài)及氫脆風險等。因此不少高端控制系統(tǒng)采用可以監(jiān)測 氫含量 / 氫分壓 的傳感器來輔助精細控制爐內(nèi)氣氛。氫與氧反應可以有效減少氧化，改善工件表面質(zhì)量；氫的量對工藝參數(shù)（如氮化氮勢 Kn 值）有直接影響；氫含量變化會影響熱傳導速度與爐內(nèi)還原性。常用的工業(yè)氣氛監(jiān)測方案會結(jié)合氧傳感器 + 氫傳感器/分析儀，形成對爐內(nèi)氣氛的綜合監(jiān)控。
用途：將爐內(nèi)氣氛中的氫分壓信息實時反饋給控制系統(tǒng)。
氫氣測量范圍：0.5% ～ 100% H?（體積濃度）在 1 atm 條件下。
測量精度：±0.5% 絕對誤差（0.5% ～ 10% H?）；±1.2% 絕對誤差（10% ～ 100% H?） 。
線性度與重復性：在測量區(qū)間內(nèi)線性與重復性亦在 ±0.2% ～ ±0.4% 級別。
響應時間：T90 約 90 秒（在推薦流量條件下）。
輸出與接口：模擬輸出：標準4-20 mA；數(shù)字通訊：RS422串口輸出（可用于 Modbus 等協(xié)議傳輸）。
報警輸出：多路繼電器觸點輸出（配置可用）。
工作溫度：750°C ～ 950°C（過程/環(huán)境）。
工藝與氣體適應：可在含有 CO?、H?O、N?、CO、H?S、輕烴 等復雜背景氣中穩(wěn)定測量 H?。
推薦定期校驗：約12個月進行一次帶標氣驗證。
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