光學平晶超聲波清洗機VGT-1107FS

光學平晶超聲波清洗機：精密光學制造的潔凈守護者

在半導體、精密光學和高端顯示面板等先進制造領(lǐng)域，元器件的清潔度直接決定了產(chǎn)品的最終性能與良品率。尤其對于光學平晶這類表面極其精密、對污染物零容忍的光學元件，傳統(tǒng)的清洗方法已難以滿足要求。威固特推出的VGT-1107FS光學平晶超聲波清洗機，正是為解決這一核心痛點而設(shè)計的高性能專用設(shè)備，它通過多系統(tǒng)集成與智能化控制，為超精密清洗設(shè)立了新的標桿。

設(shè)備定位與核心功能：專為光學精密元件而生

VGT-1107FS并非通用型清洗設(shè)備，而是一臺高度定制化的非標設(shè)備，其設(shè)計初衷就是為了滿足光學元件的無損、高效清洗需求。元件表面可能存在納米級的塵埃、油脂或拋光殘留物，任何微小的劃傷或殘留都會導致后續(xù)鍍膜工藝失敗，影響光的透射、反射等關(guān)鍵性能。

該設(shè)備的核心在于其完整的工藝鏈集成。它集成了多達11個功能槽，將清洗、漂洗、脫水、烘干等多個關(guān)鍵工序整合于一套自動化系統(tǒng)中。這不僅實現(xiàn)了從“污染”到“潔凈干燥”的全流程處理，避免了工序間轉(zhuǎn)移帶來的二次污染風險，也極大地提升了生產(chǎn)的自動化程度與效率。

標準化作業(yè)流程：保障可重復(fù)的高潔凈度

為確保每次清洗都能達到預(yù)期的光學級潔凈標準，VGT-1107FS的操作遵循一套精密且可重復(fù)的標準化流程。

準備與裝載：操作前需檢查設(shè)備狀態(tài)，并根據(jù)工件材質(zhì)和污染物類型配置合適的環(huán)保型清洗液。裝載工件時，必須使用專用清洗籃或夾具，確保工件間無接觸摩擦，且表面不直接接觸籃底，這是防止產(chǎn)生劃痕的第一步。

參數(shù)化清洗：通過集中控制面板，操作者可精確設(shè)定每個槽體的超聲波功率、清洗時間（通常在1-20分鐘范圍內(nèi)調(diào)節(jié)）以及溫度（通常預(yù)熱至40℃-50℃以提升清洗活性）。這種參數(shù)化控制是保證不同批次工件清洗效果一致性的關(guān)鍵。

深度漂洗與關(guān)鍵脫水：清洗后的工件將進入純水漂洗槽，徹底去除殘留的清洗劑。隨后，設(shè)備最核心的工藝之一高純水慢拉脫水系統(tǒng)開始工作。工件在高溫高純水中被極其緩慢地提升，利用水的表面張力，在工件表面形成一層均勻、極薄的水膜，隨后迅速蒸發(fā)。這一步驟能有效避免普通干燥后因水滴殘留而形成的水漬垢點，這些垢點在鍍膜后將成為致1命的缺陷。

終烘與檢查：最后，工件進入配備頂部FFU（風機過濾單元）的熱風烘干槽。FFU能在烘干區(qū)域形成潔凈的垂直層流風，創(chuàng)造局部高潔凈環(huán)境，防止空氣中飄落的微粒在工件升溫、表面附著力增強時被二次污染。完成全部流程后，需對工件進行潔凈度檢查，并對設(shè)備進行常規(guī)保養(yǎng)。

創(chuàng)新設(shè)計亮點：于細節(jié)處見真章

除了核心的清洗能力，VGT-1107FS在細節(jié)設(shè)計上充分體現(xiàn)了對精密制造需求的深刻理解。

自我凈化與環(huán)保設(shè)計：設(shè)備的清洗槽被隔板分為兩腔，可實現(xiàn)清洗液的內(nèi)部循環(huán)與油污分離，提高了昂貴清洗液的利用率。同時，其倡導使用環(huán)保型水溶劑，并設(shè)有完善的廢液排放管理系統(tǒng)，符合綠色生產(chǎn)趨勢。

全面防護與智能控制：設(shè)備內(nèi)置多重安全防護，如液位過低聲光報警、加熱管過溫保護等。所有電氣控制系統(tǒng)集成于獨立的控制柜，超聲波發(fā)生器更采用了分槽獨立定時設(shè)計，為用戶提供了高度的操作靈活性與安全保障。