產(chǎn)品詳情
HYDRON® SE 230A
用于半導(dǎo)體器件的堿性清洗劑
專為浸沒式清洗工藝設(shè)計的單相水基型清洗劑，能夠有效去除多種半導(dǎo)體電子器件芯片焊接后的助焊劑殘留物，包括引線框架、分立器件、功率模塊、功率LED、倒裝芯片和CMOS，且能夠保證有效去除銅表面的氧化層。
相較于其他清洗液的優(yōu)勢：
為引線鍵合、封裝和膠裝等后續(xù)工藝提供無污點(diǎn)且激活的銅表面并在一定時間內(nèi)保持活性
在處理銅、鋁、鎳等敏感金屬材料時表現(xiàn)出良好的材料兼容性
非常低的表面張力，在清洗低間隙元器件的底部殘留物時擁有卓越表現(xiàn)
應(yīng)用過程十分簡便，在浸沒式清洗工藝中擁有卓越表現(xiàn)
能夠輕易被去離子水漂洗干凈，不會留下任何殘留
應(yīng)用領(lǐng)域
去除污染物
清洗工藝
清洗技術(shù)
SiP封裝清洗
晶圓級封裝清洗
MEMS器件封裝清洗
用于半導(dǎo)體器件的堿性清洗劑
專為浸沒式清洗工藝設(shè)計的單相水基型清洗劑，能夠有效去除多種半導(dǎo)體電子器件芯片焊接后的助焊劑殘留物，包括引線框架、分立器件、功率模塊、功率LED、倒裝芯片和CMOS，且能夠保證有效去除銅表面的氧化層。
相較于其他清洗液的優(yōu)勢：
為引線鍵合、封裝和膠裝等后續(xù)工藝提供無污點(diǎn)且激活的銅表面并在一定時間內(nèi)保持活性
在處理銅、鋁、鎳等敏感金屬材料時表現(xiàn)出良好的材料兼容性
非常低的表面張力，在清洗低間隙元器件的底部殘留物時擁有卓越表現(xiàn)
應(yīng)用過程十分簡便，在浸沒式清洗工藝中擁有卓越表現(xiàn)
能夠輕易被去離子水漂洗干凈，不會留下任何殘留
應(yīng)用領(lǐng)域
去除污染物
清洗工藝
清洗技術(shù)
SiP封裝清洗
晶圓級封裝清洗
MEMS器件封裝清洗
功率電子器件清洗
